Ansys и Intel работают над эталонными технологическими процессами

13 июля 2015 | Новости / IT-новости | Добавил: Михаил

ANSYS, Inc. и корпорация Intel объявили о выпуске проверенного в производственных условиях эталонного технологического процесса с использованием решений для моделирования ANSYS для 14-нанометровго производственного процесса на базе транзисторов Tri-Gate.Эта технология позволит заказчикам Intel Custom Foundry проектировать решения для мобильных устройств и корпоративных облачных сред нового поколения, которые будут обеспечивать высочайшую производительность с сохранением низкого уровня потребления энергии.

ANSYS и Intel Custom Foundry разработали эталонные техпроцессы на базе ANSYS RedHawk для проверки энергопотребления и электропереноса в однокристальных системах на базе ANSYS Totem и ANSYS PathFinder для полной ESD-проверки.

14-нанометровая производственная технология Intel является самой передовой. На ней основано производство транзисторов Tri-Gate, которые позволяют микросхемам работать на более низком напряжении с пониженным током утечки. Все это обеспечивает более высокую производительность и энергоэффективность по сравнению с предыдущим поколением транзисторов. Такие возможности обеспечивают для проектировщиков микросхем гибкость в выборе транзисторов в зависимости от области их применения. Сотрудничество с ANSYS в проектировании 14- и 22-нанометровой продукции Intel Custom Foundry дает разработчикам возможность воспользоваться преимуществами производственных технологий Intel.

Источник: itware.com.ua

Комментарии (0) | Распечатать | | Добавить в закладки:

Другие новости по теме: