В связи с широким и бурным развитием области нанотехнологий достаточно большое количество специалистов в области электроники предполагает, что существующую технологию метало-окисных полупроводников (complementary metal oxide semiconductor, CMOS) ожидает скорая "смерть". Конечно, у этого мнения есть и оппоненты, к примеру, доктор Ханс Сторк, который на состоявшемся недавно симпозиуме по нанотехнологиям (IEEE Nanotechnology Symposium) заявил о том, что технология CMOS еще длительное время останется основой электронной промышленности. С помощью современной технологии CMOS в массовом масштабе изготавливаются чипы по технологии 32 нм, начинают уже появляться чипы, изготовленные по технологии 22 нм и исследователи многих компаний стремятся к освоению технологии 16 нм. Но, так как возможности современной технологии, основанной на дорогостоящем и медленном процессе литографии, приближаются к барьеру, то для сохранения темпов дальнейшего развития электроники требуются новые технологии и новые материалы.
Одним из последних событий в этой области стала разработка учеными из Институте биоинженерии и нанотехнологий (Institute of Bioengineering and Nanotechnology, IBN) новой технологии производства дискретных полевых транзисторов, которая может стать более быстрой, более точной и более дешевой заменой процесса литографии. Новый процесс использует лучи, состоящие из потока электронов и ионов, с помощью которых на подложку, помещенных в среду со специально подобранным составом газов, наносятся элементы полупроводниковых структур. Согласно статье, опубликованной в журнале Nanowerk, один из разработчиков новой технологии, Соментаз Рой (Somenath Roy), утверждает, что пока, новая технология лучше всего подходит для быстрого создания прототипов и моделей будущих электронных приборов, чем методы, основанные на литографии.
"Наша одноступенчатая технология позволяет избавиться от длительного и трудоемкого процесса литографии, она увеличивает точность изготовления, что положительно влияет на процент выхода готовых изделий" - говорит Рой. "Более высокий уровень точности и более высокая производительность нового метода делают его идеальным решением для быстрого изготовления прототипов наноэлектронных приборов будущего".
Хорошо, для изготовление прототипов этот метод лучше чем литография. А как обстоят дела с промышленным полномасштабным производством? Рой предполагает, что "дальнейшая оптимизация технологии может привести к возможности промышленного производства электронных схем наноуровня".
Источник: dailytechinfo
|
